电光调Q激光谐振腔

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN200910272683.5 （22）申请日 2009.11.06 （71）申请人 华中科技大学

地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

（10）申请公布号 CN101719627A

（43）申请公布日 2010.06.02

（72）发明人 朱长虹;朱晓;齐丽君;朱广志;郭飞 （74）专利代理机构 华中科技大学专利中心

代理人 曹葆青

（51）Int.CI

H01S3/16; H01S3/115;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

电光调Q激光谐振腔

（57）摘要

本发明提供的电光调Q激光谐振腔，包括

全反镜、激光介质、电光调Q晶体和输出镜，激光介质和电光调Q晶体均位于全反镜和输出镜之间，泵浦源采用侧面或端面泵浦方式，其特征在于：电光调Q晶体靠近激光介质的通光面为切割面，该切割面上镀有增透膜层，电光调Q晶体远离激光介质的通光面与所述切割面的夹角等于α

或90°-α，α＝90°-arctg(n)，n为电光调Q晶体的折射率。电光调Q谐振腔内不需要插入布儒斯特起偏镜，减小了插入损耗，提高光学机械稳定性，缩短激光谐振腔长度。该自偏振电光调Q晶体可以是所有用于横向电光效应的电光调Q晶体，如BBO、RTP、LN等。谐振腔内只存在一种偏振状态，特别适合电光调Q的要求，在实际应用中可以起到将电光调Q晶体和布儒斯特镜合二为一的作用。

法律状态

法律状态公告日

法律状态信息

2010-06-02 公开

2010-07-21 实质审查的生效 2011-01-19

授权

法律状态

公开

实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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