专利名称：矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置专利类型：实用新型专利发明人：李晨光
申请号：CN201420197329.7申请日：20140422公开号：CN203782228U公开日：20140820
摘要：本实用新型涉及一种矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置。该矩形平面磁控溅射靶材包括：第一部分，对应位于其两端区域的部分；第二部分，对应位于所述两端区域的之间区域的部分；所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。通过本公开，可以避免出现由于局部过早刻蚀穿而导致整套矩形平面磁控溅射靶材浪费，提高了整套矩形平面磁控溅射靶材的利用率。
申请人：南昌欧菲光科技有限公司,深圳欧菲光科技股份有限公司,苏州欧菲光科技有限公司
地址：330013 江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园
国籍：CN
代理机构：隆天国际知识产权代理有限公司
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